1012-半導體製程-26008

報名期間：從 即日起 到 無限期
上課期間：從 2013-01-01 到 2013-08-31

• Lecture 1 : Introduction
• Lecture 2 : Cleanroom and wafer cleaning
• Lecture 3 : Crystal growth and Epitaxy
• Lecture 4 : Photolithography (Part I)
• PR data sheet : AZ 5214E
• PR data sheet : DUV PR
• Lecture 4: Photolithograpy (Part II)
• Lecture 4 : Photolithography Future trend
• Lecture 5 : Oxidation and Thermal Process
• Lecture 6 : Etch Basics and Wet Etch
• Lecture 6 Reference - HF MSDS
• Lecture 6 Reference - How to read MSDS and chemical labels
• Lecture 8 : Plasma and Dry etching (Part I)
• Lecture 8 : Dry Etching (part II)
• Lecture 9 : Diffusion and Ion implantation (part I)
• Lecture 9 : Ion implantation (part II)
• Lecture 9 : Impantation safty and future trend
• Lectrue 10 : CVD (part I)
• Lecture 10 : CVD (part II)
• Lecture 10 : Future trend
• Lecture 11 : Metallization (part I)
• Lecture 11 : Metallization (part II)
• Lecture 7 : Vacuum system
• Lecture 12 : Process integration
• Lecture 12 : CMOS after 2010
• Lecture 12 : Copper interconnection