1002-半導體製程與設備-26022

報名期間：從 即日起 到 無限期
上課期間：從 2012-02-06 到 2012-07-31

• Lecture 1 : Introduction
• Lecture 2 : Clean room and Wafer cleaning
• Lecture 3 : Crystal growth and Epitaxy
• Lecture 4 : Photolithograpy
• Lecture 5 : Oxidation
• Lecture 6 : Wet etching
• Lecture 8 : Plasma and Dry etching
• Lecture 9 : Diffusion and implatation
• Lecture 10 : CVD
• Lecture 11: PVD and matallization